レーザマーキングLASER MARKING
HOME＞アプリケーションから探す＞レーザマーキング
.jpg)
| 製品一覧 |
オンザフライCO2レーザマーキング装置
Luxinar社製CO2レーザマーキング装置のMULTISCANシリーズは、簡単な英数字から複雑な図形まで、多種多様な材質へマーキング可能な装置です。
UVレーザマーキングシステム
産業用固体UVレーザと高速ガルバノスキャナを搭載したUVレーザマーキングシステムです。様々な材料に微細でシャープなマーキングや加工が可能です。
パルスCO2レーザ
スラブ型の高ピークパワーCO2レーザです。CWレーザと比較すると熱影響領域の小さい加工が可能となります。
小型ガルバノスキャナ
小型ガルバノスキャナはボイスコイル方式を採用しており、熱によるドリフトに強く、高速スキャニングが可能です。レーザーマーカーやレーザー加工装置への組み込みに適しています。
スパッタ対策／ヒューム対策用集塵システム
広域に発生する粉塵や煙を効果的に集める専用集塵ノズル、粘性の高い煙や粒子を遠心分離で除去する粒子キャッチャー、集塵の最適な気流を発生させるブロワーシステムから構成される新発想の集塵システムです。
レーザ光保護製品
レーザ光をブロックする遮光カーテン、パーテーション、ローラーブラインド、フィルターウインドウなど使用環境や使用用途に合わせてお選び頂けます。
PRIMES社製パワーメータ、ビームプロファイラ
PRIMES社製のパワーメータ、ビームプロファイラをご提供いたします。
オフィール社製パワーメータ
DUVからCO2まで、幅広い測定レンジのパワーメータをご提供します。ビーム径、ビーム位置測定の可能なモデルもございます。
オフィール社製ビームプロファイラ
DUVからCO2まで幅広いラインナップのビームプロファイラ、M2測定装置をご提供いたします。
fθレンズ
266〜10600nmまで幅広いラインナップのfθレンズをご提供します。高出力レーザー用に合成石英を用いたレンズも取り揃えております。
テレセントリックレンズ
266nmから10.6umまで幅広いラインナップのテレセントリックレンズをご提供します。
ビームエキスパンダ
266nmからCO2まで様々な波長に対応したビームエキスパンダをご提供します。
ズームエキスパンダ
低パワーレーザー用、高パワーレーザー用、大口径、マニュアルズーム、モータ駆動ズームなど様々なズームエキスパンダをUVからIRまで幅広く取り揃えております。
SiCスキャナ用ミラー
高速スキャニングや高出力レーザーで最高のパフォーマンスをお約束するSiCスキャナ用ミラーをご提供します。
バナースペース
株式会社インテック
〒167-0043
東京都杉並区上荻2-39-17
上荻マルモビル101
TEL 03-3301-9671
FAX 03-3301-9672
Email sales@intech-jp.com